真空氣氛燒結(jié)爐是一種用于高溫處理材料的加熱設(shè)備，結(jié)合了真空環(huán)境和氣氛控制功能。它通常用于陶瓷、粉末冶金、金屬制造等領(lǐng)域中的燒結(jié)工藝，能夠在特定的氣氛條件下對(duì)材料進(jìn)行燒結(jié)，以實(shí)現(xiàn)材料的致密化、結(jié)晶化或合金化等目的。溫度區(qū)間選擇從400-2000℃，真空度不大于0.001pa.
主要特點(diǎn)包括：

真空結(jié)構(gòu)：?真空氣氛燒結(jié)爐的外形類(lèi)似圓罐，內(nèi)部空間用于放置待處理的材料樣品。圓罐類(lèi)型設(shè)計(jì)可以滿足更高的真空度要求。。
真空環(huán)境：?真空氣氛燒結(jié)爐能夠在真空環(huán)境下進(jìn)行加熱處理。通過(guò)排除爐腔內(nèi)的氧氣和其他氣體，可以防止材料氧化、脫氣等反應(yīng)，提高材料的純度和質(zhì)量。
氣氛控制：?除了真空環(huán)境，真空氣氛箱式爐還可以控制氣氛環(huán)境，如氮?dú)狻鍤獾榷栊詺怏w環(huán)境。這有助于控制材料的化學(xué)反應(yīng)、脫氣和純度。
高溫加熱：?真空氣氛箱式爐通常能夠提供高溫加熱，可以達(dá)到空氣下最高2000℃的溫度（鎢加熱）。這使得它們適用于高溫處理需要的材料，如金屬、陶瓷、玻璃等。
精確控制：?真空氣氛箱式爐通常配備高精度的溫度控制系統(tǒng)，可以精確控制加熱過(guò)程的溫度、壓力和氣氛組成，以滿足不同材料加熱處理的需求。
真空度：真空氣氛燒結(jié)爐由于其結(jié)構(gòu)的特性，可以承載更高的壓力和真空度，其一般可滿足0.001Pa的正負(fù)氣壓。在爐膛真空的基礎(chǔ)上，通入氣氛，使燒結(jié)環(huán)境更加的純凈。
氣路和流量：真空氣氛箱式爐標(biāo)配有2路標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)氣，包含有浮球流量計(jì)和指針壓力表。可在其基礎(chǔ)上進(jìn)行功能和產(chǎn)品擴(kuò)充。
真空泵機(jī)組：真空爐標(biāo)配有機(jī)械旋片泵（可滿足真空0.1Mpa）,同時(shí)為了滿足更高的真空需求，可定制羅茨泵及擴(kuò)散泵及分子泵機(jī)組。
可擴(kuò)展性：控制方式定制：由傳統(tǒng)的國(guó)產(chǎn)儀表PID控制，可定制進(jìn)口儀表或PLC控制。多種選擇可滿足不同客戶的使用習(xí)慣。
爐門(mén)開(kāi)啟方式：傳統(tǒng)開(kāi)啟方式為側(cè)開(kāi)，可定制開(kāi)門(mén)方向及開(kāi)啟方式，手動(dòng)，半自動(dòng)，自動(dòng)化一應(yīng)俱全。
多面加熱：根據(jù)爐膛大小，在盡可能保證爐溫均勻性的同時(shí)，額外提供多面加熱選擇，可滿足更高爐溫均勻性的要求。
多點(diǎn)控溫：根據(jù)不同的使用場(chǎng)景要求，可供客戶選擇多面加熱，以提高熱輻射效率和爐溫的覆蓋范圍。
排氣口和氣路：可根據(jù)客戶使用要求，增加排氣口和氣路以及流量計(jì)等，以滿足客戶對(duì)于工藝的要求。
觸摸屏控制：熔科可根據(jù)市場(chǎng)上現(xiàn)有流行的工控觸摸屏集合制作觸摸屏控制系統(tǒng)，報(bào)表，數(shù)據(jù)，可實(shí)時(shí)觀察下載。

標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格：

規(guī)格	爐膛尺寸（mm）	加熱元件
STR-VSF	300×200×200	硅碳棒，硅鉬棒，鉬片，鎢片等
	400×250×250
	500×300×300
	600×400×400
	800×500×500
備注：	1. 設(shè)備規(guī)格基于標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格書(shū)寫(xiě)，特殊規(guī)格依然可定制。 2. 設(shè)備的溫度需求不同，則會(huì)考慮使用不同的加熱元件。 3. 真空和氣氛會(huì)影響發(fā)熱元件的使用效率，針對(duì)不同的氣氛發(fā)熱元件的溫度會(huì)存在一定差異。（具體情況可聯(lián)系詢問(wèn)）