High temperature tubular gradient furnace

該1200℃高溫管式梯度爐為實驗室用1200℃七溫區(qū)真空管式氣氛爐，屬于多溫區(qū)管式爐。梯度管式爐可沿加熱區(qū)域的長度提供溫度梯度。

1200℃七溫區(qū)真空管式氣氛爐具有7個溫區(qū)，可以獨立設置每一個溫區(qū)的參數(shù)，獨立開啟/關閉控制，可同時作業(yè)多種不同溫區(qū)需求材質(zhì)。也可將多個溫區(qū)設定為同一溫度點，即可作為加長的單溫區(qū)使用。它延續(xù)了單溫區(qū)管式爐的經(jīng)典設計，美觀與實用同在！工程師們巧妙地在合金加熱絲里邊摻入一定比例的鉬元素，其加熱溫度可以達到1200℃，極大地延長了該設備的使用壽命。如需其他溫度或多溫區(qū)產(chǎn)品，可聯(lián)系我們定制

設備用途：

1200℃七溫區(qū)真空開啟式管式氣氛爐主要應用于CVD實驗，熒光粉制備，真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境. 是各大材料實驗室必備的理想設備之一。

主要參數(shù)：

電爐名稱：1200℃七溫區(qū)真空管式氣氛爐

電爐型號：STR-TF80-D1200

設計溫度：1200℃

工作溫度：1100℃

溫區(qū)長度：100*100*100*150*100*100*100mm（溫區(qū)長度和數(shù)量可按需定制）

爐管尺寸：Φ80 X 1200 mm

爐管材質(zhì)：高純石英管

測溫元件：K型熱電偶

爐膛材質(zhì)：高純氧化鋁多晶纖維

加熱速率：0-20度/分鐘

控溫精度：±1℃

溫度均勻：±5℃

爐殼結構：雙層殼體帶風冷系統(tǒng)

設計功率：9KW

電源電壓：110-480v 50/60Hz

核心優(yōu)勢

1、靈活的溫度梯度調(diào)控能力

七個獨立控溫區(qū)可構建更精細、更長的溫度梯度場，實現(xiàn)從室溫到1200℃的復雜溫度分布

每個溫區(qū)獨立PID控制，控溫精度達±1℃，恒溫精度±1℃

支持多段程序升溫曲線，可精確模擬材料在復雜熱歷史下的行為

2、真空與氣氛控制性能

304不銹鋼法蘭密封，支持真空度達-0.1MPa至10?3Pa

可通入N?、Ar、O?、H?等多種氣體，配備2-4路浮子或質(zhì)量流量計

真空級密封結合氣氛系統(tǒng)，適合對氧敏感材料的處理

主要用途

先進材料制備

梯度功能材料：制備熱障涂層、核殼結構納米顆粒，實現(xiàn)成分/結構的連續(xù)變化

二維材料：石墨烯、碳納米管、二硫化鉬的CVD生長

納米材料：陶瓷、金屬納米顆粒的連續(xù)合成與晶化

材料熱處理研究

相變動力學：模擬淬火、退火過程，研究溫度梯度對微觀組織的影響

快速凝固：通過樣品移動實現(xiàn)>10? K/s的冷卻速率，制備非晶/納米晶材料

陶瓷燒結：電子陶瓷、結構陶瓷的梯度燒結致密化

催化與化學研究

催化劑篩選：同步測試不同溫度下的催化活性，優(yōu)化反應條件

反應動力學：設置反應區(qū)與產(chǎn)物分離區(qū)，提高選擇性和產(chǎn)率

熱解與還原：在可控氣氛下進行材料熱解、氫氣還原等反應

能源與電子材料

鋰電池材料：正極/負極材料的燒結與包覆

半導體材料：硅基、氧化物薄膜的沉積與退火

粉末冶金：金屬粉末的脫脂燒結與合金化

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管式氣氛梯度爐