該底部升降式鎢片加熱爐為實驗室用小型2200度高溫真空熱處爐，采用底部升降進出物料，加熱溫度可達2200度，真空度可達10-4pa.

應用場景

材料研發：用于高純陶瓷、高溫合金的燒結實驗及性能測試，

工業制造：硬質合金、鎢電極的真空脫氣處理，以及玻璃釉料、化工材料的熔融工藝

特殊工藝：在保護氣氛或真空環境下完成金屬的除氧、光亮退火等精細化操作

主要技術參數：（可定制）?

設備名稱：底部升降式鎢片加熱爐

設計溫度：2200度

真空度： ≤5×10-4Pa

升降系統：電動/液壓驅動，行程精度±0.5mm

加熱元件：鎢箔片電阻加熱

控制系統：PLC+觸摸屏，支持工藝配方存儲

結構特點

底部升降系統：采用電動或液壓驅動裝置，通過精密機械結構實現爐體底部升降功能，便于物料裝卸及定位控制。包含不銹鋼框架、密封門和升降平臺，確保高溫區與外部隔離。

加熱元件：爐內加熱元件或隔熱層多采用鎢片，如頂部/底部保溫層由鎢片與鉬片組合，形成高強度隔熱屏；鎢箔片作為電阻加熱元件，可承受高溫。

真空與氣氛控制：部分型號配備高真空系統（真空度達10Pa），支持氮氣、氬氣等保護氣氛，適用于無氧環境下的材料處理。

精準溫控與自動化 采用PLC+觸摸屏控制系統，支持程序化升溫曲線設定，配合熱電偶實時監測，溫度誤差可控制在±1℃以內。