1400℃高溫升降爐：升降式電阻爐

1400℃高溫升降爐為實驗室用人工智能升降式電阻爐，采用硅碳棒加熱，安裝在爐膛周圍，加熱溫度可達1400度，智能的溫控系統，氧化鋁陶瓷纖維爐膛，絲桿升降，底部進出物料。

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1200℃高溫升降爐

1200℃高溫升降爐主要針對在空氣氣氛下對樣品的熱處理，爐膛材料和穩定的加熱系統、智能的溫控系統，有助于提高實驗的便捷型、可靠性；陶瓷纖維高溫電爐采用新型多晶陶瓷纖

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1700度電動液壓升降式高溫爐：高溫升降爐

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1700℃高溫升降爐：料臺絲杠升降式高溫爐

1700℃高溫升降爐主要針對在空氣氣氛下對樣品的熱處理，爐膛材料和穩定的加熱系統、智能的溫控系統，有助于提高實驗的便捷型、可靠性；陶瓷纖維高溫電爐采用新型多晶陶瓷纖

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1200度真空連續加料回轉管式爐

1200度真空連續進料回轉管式爐由加熱系統、自動回轉機構、自動進出料套件、真空密封系統和爐體傾斜機構組成，爐管可360°旋轉，轉速可調；爐管前端配置自動旋轉加料裝置，

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1200℃回轉管式爐：肚型不銹鋼管

1200℃回轉管式爐：肚型不銹鋼管，1200℃肚型不銹鋼管回轉管式爐采用采用310S不銹鋼金屬管，管壁內有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結的更均勻，可實現真空氣氛下的樣品熱處

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1200度可傾斜旋轉管式爐

1200度可傾斜旋轉管式爐為實驗室常用粉末實驗燒結設備?？蓛A斜旋轉管式爐采用輕質陶瓷纖維精制爐膛，由兩個半圓形爐體合成，開啟方便，爐管采用高純石英爐管，爐管可360℃

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1200℃回轉管式爐

1200℃回轉管式爐為實驗室用人工智能管式電阻爐，該1200度回轉管式爐采用回轉結構設計，高溫合金絲加熱，加熱溫度可達1200度，氧化鋁陶瓷纖維爐膛，石英爐管，爐管可旋轉，

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小型CVD管式爐：實驗室用小型CVD高溫管式爐

小型CVD管式爐是一種用于化學氣相沉積（CVD）的設備，它可以在真空或受控氣體環境下對材料進行熱處理，用于制備薄膜、納米線等材料。小型CVD管式爐是一種多功能的材料制備

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1200℃雙溫區滑動式管式爐

1200℃雙溫區滑動式管式爐是為生長石墨烯研制的專用爐，也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。爐體采用開啟式結構，內置兩個溫區，可以營造不同的溫度梯度；爐底安

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1200℃小型CVD雙爐體滑動管式爐

1200℃小型CVD雙爐體滑動管式爐是一種實驗室常用的高溫設備，雙爐體滑動管式爐由兩個爐體組成，共用一支石英管和滑道，石英管兩端不銹鋼法蘭密封。雙爐體滑動管式爐爐底裝

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小型PECVD管式爐系統：實驗室小型PECVD系統

小型PECVD管式爐系統為實驗室用小型PECVD系統，PECVD系統（等離子增強化學氣相沉積系統）由高溫管式爐、真空系統、3路質子流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設備借助13

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1200度大管徑管式爐：立式大管徑管式電爐

大管徑管式爐爐管可選大口石英管、大口徑高溫合金管，使用溫度為1100℃以下。大管徑管式爐有大管徑立式管式爐、大管徑多溫區管式爐、大管徑旋轉管式爐、大管徑氫還原管式爐

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1600℃立式管式爐:立式管式電爐

1600℃立式管式爐為實驗室用人工智能管式電阻爐，該1600度小型立式管式電爐采用立式結構設計，硅鉬棒加熱，加熱溫度可達1700度，氧化鋁陶瓷纖維爐膛，99剛玉爐管，配有真空

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1400℃立式管式爐：人工智能管式電阻爐

1400℃立式管式爐采用立式設計，爐管豎直于爐膛中。1400℃立式管式爐為實驗室用人工智能管式電阻爐，該1400度小型立式管式電爐采用立式結構設計，硅碳棒加熱，加熱溫度可達

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1200℃立式管式爐：小型立式管式電爐

1200℃立式管式爐為實驗室用人工智能管式電阻爐，該1200度小型立式管式電爐采用立式結構設計，高溫合金絲加熱，加熱溫度可達1200度，氧化鋁陶瓷纖維爐膛，石英爐管，配有真

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1200度三溫區高溫管式爐

1200度三溫區高溫管式爐采用高溫陶瓷纖維絕熱材料隔熱,高溫合金電阻絲內嵌式環繞加熱，溫場均勻,高純剛玉管作為爐膛，潔凈度高。通過不同的真空系統，可獲得不同的真空，也

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1700C High Vacuum Three Zone Tube Furnace:CVD Tube Furnace

1700C High Vacuum Three Zone Tube Furnace:CVD Tube Furnace

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1400℃三溫區立式管式爐

1400℃三溫區立式管式爐為實驗室用人工智能管式電阻爐，該1600度三溫區立式管式實驗爐采用立式結構設計，硅碳棒加熱，加熱溫度可達1400度，三溫區設計，氧化鋁陶瓷纖維爐膛

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1200℃三溫區立式管式爐

高溫智能馬弗爐為實驗室用人工智能箱式電阻爐，采用硅碳棒加熱，加熱溫度可達1400度，氧化鋁陶瓷纖維爐膛，爐膛容積約8L。電爐名稱：1200℃三溫區立式管式爐爐管尺寸：φ25

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