小型PECVD管式爐系統(tǒng)為實驗室用小型PECVD系統(tǒng),PECVD系統(tǒng)(等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng))由高溫管式爐、真空系統(tǒng)、3路質(zhì)子流量控制和射頻電源四大模塊組成,可加預(yù)熱爐。
本設(shè)備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離,在真空腔體內(nèi)形成等離子體,利用等離子的強化學(xué)活性,改善反應(yīng)條件,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù),然后得到基片上沉積出所期望的薄膜。
電爐名稱:1200℃小型PECVD管式爐系統(tǒng):
爐管尺寸:φ40--φ100mm
電爐結(jié)構(gòu):普通管式爐、滑動管式爐
溫區(qū)長度:300mm/440mm
設(shè)計溫度:1200℃
控溫精度:±1℃
混氣系統(tǒng):2路質(zhì)子混氣室、3路質(zhì)子混氣室、5路質(zhì)子混氣室
1、CVD管式爐系統(tǒng)由高溫管式爐、真空獲得、3路質(zhì)子流量控制和射頻電源
2、管式爐可選擇不同的管徑和恒溫區(qū)的長度、電爐結(jié)構(gòu)(普通管式爐、滑動管式爐),爐管兩端裝有高真空不銹鋼密封法蘭;
3、真空系統(tǒng)可根據(jù)試驗要求選擇不同的真空泵,旋片式機械真空泵真空度≤0.098Mpa,分子泵真空機組真空度1×10-4pa;
4、氣路供氣系統(tǒng)可選擇3路浮子手動和3路自動質(zhì)量流量系統(tǒng)
5、真空測量為數(shù)字復(fù)合真空機或皮拉尼真空計
6、等離子體放電選擇13.56Mhz的設(shè)備電源,功率輸出可選擇200W、300W和500W
7、管式爐可選擇單溫區(qū)300mm和440mm,也可選擇三溫區(qū)或多溫區(qū)進行溫度的梯度試驗
8、溫控器內(nèi)置的RS485數(shù)字通信端口和USB適配器作為可選配置,可連接PC,用于系統(tǒng)的遠程控制和監(jiān)視,還可以保存或?qū)С鰷y試結(jié)果。
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型號規(guī)格 |
STR-PECVD40-12 |
STR-PECVD60-12 |
STR-PECVD80-12 |
STR-PECVD100-12 |
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爐管尺寸 |
Φ40x 1200mm |
Φ60 x 1200mm |
Φ80x1200mm |
Φ100x 1200mm |
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設(shè)計溫度 |
1200℃ |
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工作溫度 |
1100℃ |
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溫區(qū)長度 |
300mm/440mm |
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電源電壓 |
220V/1.8KW |
220V/2.6KW |
220V/2.6KW |
220V/2.6KW |
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加熱元件 |
HRE鐵鉻鋁合金電阻絲 |
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爐膛材料 |
濕法真空抽濾成型制備的多晶無機氧化鋁陶瓷纖維材料 |
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爐管材料 |
石英管 |
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控溫精度 |
±1℃ |
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測溫元件 |
K型熱電偶 |
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溫控儀表 |
智能智能溫控儀表+PID控制,SCR/SSR控制,PID參數(shù)自整定功能; 可編程序30個時段,程序升溫、程序保溫、程序降溫 |
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升溫速度 |
1-25℃/min自由調(diào)節(jié) |
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爐體結(jié)構(gòu) |
爐膛溫控一體式結(jié)構(gòu),爐膛開合式;雙層爐體外殼,空氣循環(huán)隔熱 |
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密封性能 |
爐管兩端裝有不銹鋼金屬法蘭,配套高溫 PTFE 墊圈,可在真空下進行工作, 真空度≤0.098Mpa(旋片式真空泵) |
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射頻電源 |
頻率:13.56 MHz±0.005%,功率:5W-500W,功率穩(wěn)定性 :±0.5% |
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氣體控制 |
可選擇3路浮子手動流量計,量程60-600ml /min;3路自動質(zhì)量流量計,量程1-500sccm |
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氣氛性能 |
法蘭兩端有進氣口和出氣口,壓力表裝在金屬法蘭上,精密針型閥可調(diào)節(jié)進氣和出氣量, 可通入氮氣、氬氣、氫氣等保護氣體 |
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氣路接口 |
KF25真空擋板閥和KF25不銹鋼波紋管連接真空泵; 保護氣氛6mm不銹鋼卡套接頭和PTFE管路 |
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設(shè)備保護 |
模塊化控制,對工作過程中的超溫、斷偶會發(fā)出聲光報警信號,并自動完成保護動作 |
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人員保護 |
在設(shè)備上裝有空開斷路器,如發(fā)生短路漏電情況時會自動彈開,能保護設(shè)備和操作人員 |
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爐體外殼 |
加厚冷軋鋼板數(shù)控機床下料加工,經(jīng)過焊接、打磨、拋光、磷化、酸洗、表面靜電噴涂塑粉 |
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質(zhì)量認證 |
ISO9001,付費可認證CE、SGS、TUV |
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推薦內(nèi)容
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