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產品型號：STR-MTF60-12-4小型滑動式PECVD系統
電爐類型：高溫管式爐
電爐規格：
加熱溫度：1200
電爐系列：高溫馬弗爐
應用范圍：STR-MTF60-12-4小型滑動式PECVD系統是由STR-MTF60-12滑動式管式爐、高真系統、射頻電源系統及流量控制系統組成。。
STR-MTF60-12-4小型滑動式PECVD系統是由STR?MTF60-12滑動式管式爐、高真系統、射頻電源系統及流量控制系統組成。
PECVD小型滑動開啟式管式爐系統通過滑動爐體來實現快速的升降溫，配置不同的真空系統來達到需要的真空度；同時通過多路高精度質量流量計控制不同氣體。是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇。
PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點；
主要用途：
小型滑動式PECVD系統可用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
主要技術參數
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電爐名稱 |
小型滑動式PECVD系統（STR-MTF60-12-4滑動式管式爐PECVD系統） |
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爐體結構 |
雙層爐殼間配有風冷系統，有效保證外殼表面溫； 爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩 爐子可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻 爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料 |
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電源 |
電壓：AC220V?50、60Hz；功率：4KW |
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爐管 |
高純石英管，高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小 尺寸：Φ60*1250mm |
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法蘭及支撐 |
SUS304不銹鋼快速法蘭，通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空 一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷 可調節的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合 |
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加熱系統 |
加熱元件采用摻鉬的鐵鉻鋁合金加熱絲(OCr27Al7Mo2)，加熱溫度可達1200℃。表面負荷高、經久耐用 加熱區長度：270mm 恒溫區長度：100mm 工作溫度：≤1150℃ 設計溫度：1200℃ 升溫速率：10℃/min |
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溫控系統 |
溫度控制采用人工智能溫控儀表，具有PID調節、自整定功能 30段升降溫程序 測溫元件：K型熱電偶 恒溫精度：±1℃ |
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混氣系統 |
四路質量流量計：數字顯示、氣體流量自動控制 內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用304不銹鋼管，接口為Φ6卡套 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量 流量規格：0~200sccm 流量精度：±1.5% |
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高真空真空系統 |
采用雙級旋片真空泵+分子泵，極限真空可達4.0*10^-4Pa 復合真空計，配置電阻規+電離規 抽速：110L/S 冷卻：風冷 電源:AC220V?50、60Hz |
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射頻電源系統 |
輸出功率:0-300W 功率穩定度：±0.1% 射頻電源頻率:13.56MHz?穩定性±0.005% 蕞大反向功率:120W 射頻電源電子輸出端口:UHF 冷卻:風冷 電源:AC187-253V?50、60Hz |
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可選配件 |
混氣系統,中、高真空系統，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀。 |
滑軌爐 1200℃大口徑滑軌爐 管式快速退火爐 滲碳爐爐蓋總成
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