STR-TF60-12-4小型PECVD管式爐

產品型號：STR-TF60-12-4小型PECVD管式爐

電爐類型：高溫管式爐

電爐規格：

加熱溫度：1200

電爐系列：高溫馬弗爐

應用范圍：STR-TF60-12-4小型PECVD管式爐系統由STR-TF60-12管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及4通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的不出選擇。。

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產品簡介 / Introduction

STR?TF60-12-4小型PECVD管式爐系統由STR-TF60-12管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及4通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的不出選擇。

小型PECVD管式爐系統在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。

PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等；PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；

主要用途：

小型PECVD管式爐系統可用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

主要結構特點：

1、賽特瑞小型PECVD管式爐系統采用雙層殼體結構，箱體外殼板材采用加厚碳鋼與冷軋鋼板,經精密數控機床切割、折型、焊接成型而成，堅固耐用；

2、雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，高溫度時爐殼外部溫度低。

3、表面采用雙色環氧粉末靜電噴涂，經噴漆高溫處理而成，腐蝕耐酸堿；雙色搭配，小型PECVD管式爐系統外觀新穎美觀、耐用！?

4、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，蕞高真空可達0.001Pa；

5、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；

6、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性；

7、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；

8、管路采用Swagelok卡套連接，不漏氣；

9、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。

主要技術參數：

STR?TF60-1200 開啟式管式爐	控溫方式	采用人工智能溫控儀表，具有PID調節、自整定功能，可編制30段升降溫程序。
	加熱元件	0Cr27Al7Mo2
	工作電源	AC220V?50Hz/60Hz
	額定功率	4kw
	爐管材質	高純石英管
	爐管尺寸	Φ60、Φ80*1200mm
	工作溫度	≤1150℃
	設計溫度	1200℃
	恒溫精度	±1℃
	恒溫區	200mm
	升溫速度	≤10℃/min
	密封方式	不銹鋼快速法蘭擠壓密封
分子泵真空系統	真空范圍	0.1-0.001Pa
	極限真空	4.0*10^-4Pa
	電爐配置	雙級旋片真空泵+分子泵
	測量方式	復合真空計
	真空規管	電阻規+電離規
	冷卻方式	風冷
	工作電源	AC220V?50、60HZ
	抽速	110L/S
射頻電源系統	射頻功率輸出范圍	5~500W
	射頻頻率	13.56MHz±0.005%
	噪聲	≤55DB
	冷卻方式	風冷
	功率溫定度	±?0.1%
4路質子混氣系統	流量規格	0－200sccm?（可根據客戶需要配置）
	線性	±1.5%F.S
	準確度	±1.5%F.S
	重復精度	±0.2%F.S.
	響應時間	≤8sec
	耐壓	3MPa
	氣路通道	4通道（根據客戶需求）
	針閥	316不銹鋼
	管道	Φ6mm不銹鋼管
	接口	SwagelokΦ6mm

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產品·優勢

PRODUCT ADVANTAGES

外形美觀

外殼由冷軋鋼板折,表面經高速拋丸后靜電噴塑。
密封圈式電纜

可拆卸組合面有密封墊、環、圈、帽。
產品更耐用

推出新型設計方案，結構合理、通用性強、使用壽命高。
按需定制

可按客戶要求定制。

生產基地production base

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