實驗室小型CVD化學氣相沉積爐
- 別稱：小型CVD系統
- 類型：高溫電爐系列
- 溫度：
- 規格：
產品詳情
實驗室小型CVD化學氣相沉積爐由開啟式單（雙）溫區管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成。小型CVD化學氣相沉積爐可實現真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
小型cvd系統有小型雙溫區管式爐CVD系統、小型滑動管式爐CVD系統、二通道混氣CVD系統 、三通道混氣CVD系統 、集成式小型CVD系統。
主要用途：
實驗室小型CVD化學氣相沉積爐可用于高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。
結構特點：
1、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達0.0001Pa；
2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制；
3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的穩定性和連續均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；
5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用穩定可靠。
主要技術參數：
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STR?TF60-1200 |
控溫方式 |
采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能， 并可編制30段升降溫程序。 |
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加熱元件 |
0Cr27Al7Mo2 |
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爐管材質 |
高純石英 |
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爐管尺寸 |
Φ60,可選Φ60、Φ80、Φ100*1000mm |
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工作溫度 |
≤1150℃ |
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設計溫度 |
1200℃ |
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恒溫精度 |
±1℃ |
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加熱區長度 |
440mm或220mm/220mm |
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升溫速度 |
≤20℃/min |
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工作電源 |
AC220V????50HZ/60HZ |
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額定功率 |
4KW |
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ZK-F真空系統 |
真空范圍 |
0.1-0.001Pa |
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極限真空 |
4.0*10^-4Pa |
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產品配置 |
雙級旋片真空泵+分子泵 |
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測量方式 |
復合真空計 |
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真空規管 |
電阻規+電離規 |
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冷卻方式 |
風冷 |
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工作電源 |
AC220V?50/60HZ |
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抽速 |
110L/S |
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ZDFC-Ⅲ 壓強控制儀 |
測量范圍 |
5～1*10^-5?Pa |
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穩壓(真空)范圍 |
1～5*10^-3Pa |
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壓力(真空)穩定精度） |
±3% |
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控制范圍 |
2.5*10^3～1*10^-4?Pa |
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控制精度 |
±?1% |
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HQZ-Ⅲ三路質子混氣系統 |
控制方式 |
D07-7K質量流量計,D08流量顯示儀 |
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流量規格 |
0－500SCCM?/0－1SLM,（可根據客戶需要配置） |
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線性 |
±1%F.S |
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準確度 |
±1%F.S |
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重復精度 |
±0.2%F.S. |
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響應時間 |
≤2sec |
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耐壓 |
3MPa |
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氣路通道 |
3通道（根據客戶需求） |
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針閥 |
316不銹鋼 |
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管道 |
Φ6mm不銹鋼管 |
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接口 |
SwagelokΦ6mm |
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