實(shí)驗(yàn)室小型CVD化學(xué)氣相沉積爐
- 別稱：小型CVD系統(tǒng)
- 類型：高溫電爐系列
- 溫度：
- 規(guī)格：
產(chǎn)品詳情
實(shí)驗(yàn)室小型CVD化學(xué)氣相沉積爐由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、壓強(qiáng)控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成。小型CVD化學(xué)氣相沉積爐可實(shí)現(xiàn)真空達(dá)0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。
小型cvd系統(tǒng)有小型雙溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)、小型滑動(dòng)管式爐CVD系統(tǒng)、二通道混氣CVD系統(tǒng) 、三通道混氣CVD系統(tǒng) 、集成式小型CVD系統(tǒng)。
主要用途：
實(shí)驗(yàn)室小型CVD化學(xué)氣相沉積爐可用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場(chǎng)所。
結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：
1、高真空系統(tǒng)由雙級(jí)旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達(dá)0.0001Pa；
2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測(cè)量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的穩(wěn)定性和連續(xù)均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；
5、超溫、過壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，使用穩(wěn)定可靠。
主要技術(shù)參數(shù)：
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STR?TF60-1200 |
控溫方式 |
采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能， 并可編制30段升降溫程序。 |
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加熱元件 |
0Cr27Al7Mo2 |
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爐管材質(zhì) |
高純石英 |
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爐管尺寸 |
Φ60,可選Φ60、Φ80、Φ100*1000mm |
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工作溫度 |
≤1150℃ |
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設(shè)計(jì)溫度 |
1200℃ |
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恒溫精度 |
±1℃ |
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加熱區(qū)長度 |
440mm或220mm/220mm |
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升溫速度 |
≤20℃/min |
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工作電源 |
AC220V????50HZ/60HZ |
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額定功率 |
4KW |
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ZK-F真空系統(tǒng) |
真空范圍 |
0.1-0.001Pa |
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極限真空 |
4.0*10^-4Pa |
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產(chǎn)品配置 |
雙級(jí)旋片真空泵+分子泵 |
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測(cè)量方式 |
復(fù)合真空計(jì) |
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真空規(guī)管 |
電阻規(guī)+電離規(guī) |
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冷卻方式 |
風(fēng)冷 |
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工作電源 |
AC220V?50/60HZ |
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抽速 |
110L/S |
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ZDFC-Ⅲ 壓強(qiáng)控制儀 |
測(cè)量范圍 |
5～1*10^-5?Pa |
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穩(wěn)壓(真空)范圍 |
1～5*10^-3Pa |
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壓力(真空)穩(wěn)定精度） |
±3% |
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控制范圍 |
2.5*10^3～1*10^-4?Pa |
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控制精度 |
±?1% |
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HQZ-Ⅲ三路質(zhì)子混氣系統(tǒng) |
控制方式 |
D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀 |
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流量規(guī)格 |
0－500SCCM?/0－1SLM,（可根據(jù)客戶需要配置） |
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線性 |
±1%F.S |
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準(zhǔn)確度 |
±1%F.S |
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重復(fù)精度 |
±0.2%F.S. |
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響應(yīng)時(shí)間 |
≤2sec |
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耐壓 |
3MPa |
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氣路通道 |
3通道（根據(jù)客戶需求） |
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針閥 |
316不銹鋼 |
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管道 |
Φ6mm不銹鋼管 |
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接口 |
SwagelokΦ6mm |
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