STR-MTF60-12-4小型滑動式PECVD系統(tǒng)是由STR?MTF60-12滑動式管式爐、高真系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)及流量控制系統(tǒng)組成。
PECVD小型滑動開啟式管式爐系統(tǒng)通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫,配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到需要的真空度;同時通過多路高精度質(zhì)量流量計控制不同氣體。是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇。
PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子,就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng);借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜;具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點;
主要用途:
小型滑動式PECVD系統(tǒng)可用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
主要技術(shù)參數(shù)
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電爐名稱 |
小型滑動式PECVD系統(tǒng)(STR-MTF60-12-4滑動式管式爐PECVD系統(tǒng)) |
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爐體結(jié)構(gòu) |
雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng),有效保證外殼表面溫; 爐子底部裝有一對滑軌,移動平穩(wěn) 爐子可以手動從一端滑向另一端,實現(xiàn)快速的加熱和冷卻 爐蓋可開啟,可以實時觀察加熱的物料 |
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電源 |
電壓:AC220V?50、60Hz;功率:4KW |
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爐管 |
高純石英管,高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng),耐腐蝕,熱膨脹系數(shù)極小 尺寸:Φ60*1250mm |
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法蘭及支撐 |
SUS304不銹鋼快速法蘭,通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空 一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷 可調(diào)節(jié)的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐 包含進(jìn)氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合 |
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加熱系統(tǒng) |
加熱元件采用摻鉬的鐵鉻鋁合金加熱絲(OCr27Al7Mo2),加熱溫度可達(dá)1200℃。表面負(fù)荷高、經(jīng)久耐用 加熱區(qū)長度:270mm 恒溫區(qū)長度:100mm 工作溫度:≤1150℃ 設(shè)計溫度:1200℃ 升溫速率:10℃/min |
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溫控系統(tǒng) |
溫度控制采用人工智能溫控儀表,具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能 30段升降溫程序 測溫元件:K型熱電偶 恒溫精度:±1℃ |
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混氣系統(tǒng) |
四路質(zhì)量流量計:數(shù)字顯示、氣體流量自動控制 內(nèi)置不銹鋼混氣箱,每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用304不銹鋼管,接口為Φ6卡套 每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥 通過控制面板上的旋鈕來調(diào)節(jié)氣體流量 流量規(guī)格:0~200sccm 流量精度:±1.5% |
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高真空真空系統(tǒng) |
采用雙級旋片真空泵+分子泵,極限真空可達(dá)4.0*10^-4Pa 復(fù)合真空計,配置電阻規(guī)+電離規(guī) 抽速:110L/S 冷卻:風(fēng)冷 電源:AC220V?50、60Hz |
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射頻電源系統(tǒng) |
輸出功率:0-300W 功率穩(wěn)定度:±0.1% 射頻電源頻率:13.56MHz?穩(wěn)定性±0.005% 蕞大反向功率:120W 射頻電源電子輸出端口:UHF 冷卻:風(fēng)冷 電源:AC187-253V?50、60Hz |
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可選配件 |
混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng),各種剛玉、石英坩堝,石英管,計算機(jī)控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀。 |
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